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      當前位置:首頁產品中心分散機在線式分散機GMSD2000更細的高剪切分散機

      更細的高剪切分散機

      產品簡介

      更細的高剪切分散機是升級款細化設備,依托超高轉速定轉子,結合多層剪切結構,產生更強剪切、撞擊力,可將物料細化至微米甚至納米級,且粒徑分布更窄。設備適配高粘度、難分散物料,控溫精準、無si角,廣泛用于生物醫藥、高duan涂料等領域,滿足高細度加工需求。

      產品型號:GMSD2000
      更新時間:2025-09-25
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:124
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      更細的高剪切分散機


      由于金屬氧化物多為結晶結構等,與水相和油相等不易集合,使得氧化物不易被分散在物料中達不到目的要求,所以常在使用之前將其進行表面處理,用不同類型的表面改性劑等進行表面處理,即先用部分物料于氧化物混合進行分散處理,達到要求后再進行與物料的任意比混溶!
           而色漿料的預處理則顯得尤為重要,漿料的工藝分散常使用三輥機進行研磨,三輥機的研磨的劣勢在于長時間研磨,工作效率不高,有時需要多道工序反復研磨、或多臺連續分級研磨才能達到效果;第二點劣勢在于損耗較大,腔體殘留量較大,有時殘留量可達65-80%。

      SID機械設備有限有限公司研發生產的高剪切分散機、漿料分散機運用高剪切飛作用力和精密定轉子配合,實現了漿料的納米級分散!SID高剪切分散機轉速可達15000rpm,實現高能量的輸出作用在物料上實現的漿料的均勻分散!且腔體無殘留量物料,物料全部被分散研磨。

      更細的高剪切分散機


      高剪切分散機采用德國進口定轉子和機械密封風核心部件,實現了設備產品品質國際化。

      分層是分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續相中上浮或下沉的結果。在忽略布朗運動效應的靜態條件下,可用Stokes 定律來描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 由下式確定:

      ρs -ρ為分散相與連續相的密度差,為重力加速度,為分散相顆粒直徑,μ為連續相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續相密度大,顆粒下沉,速度 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續相液體分子大小時,顆粒才能穩定、均勻地分散在液體中不發生分離。
      通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩定性,分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出,根據前人所做的大量研究發現,隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變為次要的因素,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時,此時,顆粒的布朗運動效應就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動,而使得顆粒之間產生激烈地碰撞。若不加穩定劑,這些情況都會導致顆粒團聚,對體系的穩定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩定。

      更細的高剪切分散機


      影響分散乳化結果的因素有以下幾點:
      1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
      2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
      3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
      4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
      5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

      線速度的計算
      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
      – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
      g 定-轉子 間距 (m)
      由上可知,剪切速率取決于以下因素:
      – 轉子的線速率
      – 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
      SID 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

      速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

         更細的高剪切分散機高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求。SID公司在GRS2000系列的基礎上又開發GRS2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.



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