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      當前位置:首頁產品中心膠體磨管線式膠體磨GMD2000氣相白炭黑高速膠體磨

      氣相白炭黑高速膠體磨

      產品簡介

      氣相白炭黑高速膠體磨是專用于氣相白炭黑分散的高效設備,依托高速旋轉的定轉子產生強剪切、撞擊力,打破白炭黑團聚體,實現均勻分散。它能提升物料穩定性與性能,適配涂料、膠粘劑等領域,具有分散效率高、粒徑控制精準、操作便捷的特點,是氣相白炭黑應用中的關鍵加工設備。

      產品型號:GMD2000
      更新時間:2025-09-30
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:150
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      氣相白炭黑高速膠體磨


      高熔點、高硬度、難溶于水和耐酸堿性。

      在電子工業中,二氧化硅用于制造集成電路、微電子器件和光電器件;在醫療器械領域,它被用作人工骨、人工關節和牙齒修復材料;在建筑材料領域,二氧化硅因其防火性能和保溫隔熱效果而被用于隔熱材料、保溫材料和防水材料;在精細化工領域,二氧化硅應用于化妝品、涂料、橡膠、塑料等;在食品添加劑領域,二氧化硅用于防止食品氧化和吸濕;在玻璃制造領域,它是制造平板玻璃、玻璃瓶、玻璃器皿及高級光學儀器玻璃的必需原材料;此外,二氧化硅也用作鋰離子電池的正極材料。

      氣相白炭黑高速膠體磨


      制備方法主要有物理法通過高純度石英砂經過研碎、洗滌、篩分等工藝得到細粉狀的二氧化硅。化學法主要通過化學反應來制備,常用的方法包括氯化法和溶膠-凝膠法,其中氯化法將硅石與氫氯酸反應生成氯硅烷,再通過氧化或水解反應制得二氧化硅;溶膠-凝膠法則通過將硅源溶解于溶劑中形成溶膠,然后通過凝膠化和熱處理得到二氧化硅。浸出法通過酸性溶液浸出硅源,再經過沉淀、烘干等步驟制取二氧化硅。

      納米顆粒二氧化硅催化劑是指顆粒尺寸小于100 nm的材料。該類催化劑具有高比表面積、晶體質量好等優點,可用于催化反應、光催化等領域。常見的制備方法包括溶膠-凝膠法、氣相沉積法等。


      SID模塊化設計的主要特點如下:

      -直立式腔體結構,物料可以全部進入分散腔;

      -無si角;

      -良好的表面處理;

      -符合CIP/SIP的清洗要求;

      -低噪音;

      -所有接觸物料的材質均為SS316;

      -小試、中試到量產,平穩過渡;

      -僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求;

      -衛生設計,適合食品及制藥行業;

      -可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。

      氣相白炭黑高速膠體磨

      表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。

      流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到大允許量的10%

      本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。


      氣相白炭黑高速膠體磨設備參數表:

      研磨分散機

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW


      GMSD2000/4

      400

      14,000

      44

      4

      DN25/DN15

      GMSD2000/5

      1000

      10,050

      44

      11

      DN40/DN32

      GMSD2000/10

      3000

      7,500

      44

      22

      DN80/DN65

      GMSD2000/20

      8000

      4,900

      44

      45

      DN80/DN65

      GMSD2000/30

      20000

      2,850

      44

      90

      DN150/DN125

      GMSD2000/50

      60000

      1,100

      44

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。








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